撞击流-旋转填料床制备纳米CeO2

超精密抛光需要粒径均匀的纳米CeO2,针对中国绝大多数企业生产的稀土抛光粉难以满足国内对高性能抛光材料需求的问题,采用新型反应器——撞击流-旋转填料床制备纳米CeO2,探究了 NH4HCO3浓度、沉淀温度、液体流量、超重力因子、陈化温度及陈化时间对纳米Ce02粒径和形貌的影响.实验结果表明,NH4HCO3浓度越低,纳米Ceo2粒径越小,随着沉淀温度、液体流量、超重力因子、陈化温度、陈化时间、煅烧温度和煅烧时间的增加,纳米Ceo2粒径先减小后增大.NH4HCO3浓度50 g·L-1,沉淀温度90℃,液体流量20L·h-1,超重力因子92,陈化温度30℃,陈化时间1h,煅烧温度650℃,煅烧时间1.5h,制备出的纳米CeO2为球形,平均粒径为68 nm,晶粒大小为12 nm,粒度均匀,达到超精密抛光应用要求.