基本信息
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个人简介
主要从事高密度等离子体深亚微米刻蚀研究,研发了世界上第一套等离子体工艺模拟的商业软件并得到广泛使用。2001年进入中芯国际集成电路制造有限公司后,组建了先进刻蚀技术工艺部,在中国实现了用于大生产的双镶嵌法制备工艺,为中国首次实现铜互连提供了工艺基础。发表论文100多篇;申报发明专利84项,其中国际专利24项;国家十一五02重大专项项目总负责人;国家十二五重大专项项目首席科学家;国家973项目首席科学家。
研究兴趣
论文共 22 篇作者统计合作学者相似作者
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Chai Zongyue, Tang Lin, Liu Zhu, Qi Dianyu, Jiang Huiyun, Wang Chunya, Gao Dawei,Wu Hanming, Fang Wenzhang
2025 Conference of Science and Technology of Integrated Circuits (CSTIC)pp.1-3, (2025)
2025 Conference of Science and Technology of Integrated Circuits (CSTIC)pp.1-3, (2025)
Jinjiang Luo, Lin Tang, Huiyun Jiang, Rong Li, Dianyu Qi,Hanming Wu, Fang Wang, Yitao Ma, Wenzhang Fang
2025 Conference of Science and Technology of Integrated Circuits (CSTIC)pp.1-3, (2025)
2025 Conference of Science and Technology of Integrated Circuits (CSTIC)pp.1-3, (2025)
Deleted Journalno. 1 (2024)
CoRR (2024)
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CONFERENCE OF SCIENCE & TECHNOLOGY FOR INTEGRATED CIRCUITS, 2024 CSTIC (2024)
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作者统计
#Papers: 22
#Citation: 27
H-Index: 3
G-Index: 4
Sociability: 4
Diversity: 1
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合作学者
合作机构
D-Core
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