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On the Use of Pulsed DC Bias for Etching High Aspect Ratio Features

Xingyi Shi, Samaneh Sadighi, Shahid Rauf, Han Luo, Jun-Chieh Wang,Jason Kenney, Jean-Paul Booth,Daniil Marinov, Mickael Foucher,Nishant Sirse

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A（2025）

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