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Optical Emission Spectroscopy As a Method for Evaluating the Change in Si Etching Structures Profile in ICP SF6/C4F8 Plasma: Microstructures

Artem A. Osipov, Alina E. Fumina,Anastasia B. Speshilova,Ekaterina V. Endiiarova,Armenak A. Osipov,Sergey E. Alexandrov

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A（2024）

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