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在清言上使用

Suppression of Crack Formation in Wafer-Scale Amorphous SiNx Films by Residual Hydrogen-Ligands Manipulation

Yutao Dong,Xin Yin, Wenjian Liu, Fayaz A. Shaikh,Ziyi Zhang,Xudong Wang

Nano Trends(2024)

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关键词
PECVD, Amorphous SiNx films,Residual H ligands,Interfacial strain,Crack alleviation
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