自浸润式纳米压印耦合实现量子点发光二极管性能提升

胶体量子点材料因其优良的窄发射光谱、可调发射波长、高发光效率和优异的稳定性而被广泛研究,且同时具有溶液可加工性使得量子点发光二极管(Quantum dot light-emitting diode,QLED)具有广泛的适用性和应用.然而,器件自身存在的基底模式导致QLED器件大量光子被限制在内部无法利用.本文基于纳米压印工艺同时利用聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)材料本身的表面结合能开发出溶剂自浸润式纳米压印工艺,对压力依赖度低的同时简化了工艺流程,制备出高质量周期性的1.3,1,0.5 μm三种尺寸的微纳结构图案层,对红、绿、蓝三色QLED器件进行耦合实现光提取.在这种情况下,1.3 μm微纳结构耦合绿光QLED器件亮度达到 715 069 cd·m-2,最大外量子效率(External quantum efficiency,EQE)和电流效率分别提升至12.5%和57.3 cd·A-1;1 μm尺寸耦合的蓝光QLED器件各电学性能提升接近200%;0.5 μm尺寸耦合红光QLED器件EQE也从17.3%提升至20.5%.并通过角分布测试,证明微纳结构不会对QLED器件发光强度造成影响,仍然接近朗伯体发射.本工作提出的溶剂自浸润式纳米压印工艺及QLED光提取方法,为QLED的性能提升提供了一条简单有效的途径.