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Suppressing Substrate Oxidation During Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition on Semiconductor Surfaces

Oliver Bienek,Tim Rieth, Julius Kuehne,Benedikt Fuchs,Matthias Kuhl,Laura I. Wagner,Lina M. Todenhagen,Lukas Wolz,Alex Henning,Ian D. Sharp

APPLIED PHYSICS LETTERS（2024）

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