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7nm技術ノードを超えてスケーリングのための傾斜イオン注入によるサブリソグラフィーパターン形成【Powered by NICT】

Zheng Peng,Kim Sang Wan,Connelly Daniel,Kimihiko Kato,Fei Ding, Robert D. Leonard,Liu Tsu-Jae King

IEEE Transactions on Electron Devices（2017）

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