双平面研磨Si3N4圆柱滚子的表面质量

HUANG Heli,LI Songhua,WU Yuhou,SUN Jian, WANG Pengfei,ZHAO Zichen

Diamond & Abrasives Engineering（2023）

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摘要

为获得双平面研磨Si3N4 圆柱滚子的最佳工艺参数组合,采用正交试验法,探究研磨盘转速、研磨压力和磨粒基本颗粒尺寸对其表面质量和去除效率的影响规律,并以工件的表面粗糙度和材料去除效率作为研磨最佳工艺参数的优选依据.结果表明:随着研磨盘转速和研磨压力的增大,工件表面粗糙度先减小后增大;且磨粒基本颗粒尺寸和工件表面粗糙度、研磨盘转速和研磨压力和去除效率均呈正相关.Si3N4 圆柱滚子研磨的最佳工艺参数组合是金刚石磨粒基本颗粒尺寸为 2.6 μm、研磨盘转速为 20 r/min、研磨压力为0.15 MPa;在此最优参数下,可获得表面粗糙度为 0.048 6 μm、材料去除效率为 1.20 μm/min的光滑无损伤Si3N4 圆柱滚子.

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关键词

double-sided grinding,si3n4 cylindrical roller,surface roughness,removal efficiency

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