HALF银铜管道的多腔TiZrV镀膜初步研究
Chinese Journal of Vacuum Science and Technology（2023）
摘要
NEG镀膜技术可以在狭长的真空腔内实现超高真空,这对衍射极限储存环至关重要.为满足HALF光源工程对NEG镀膜真空腔的进度和质量需求,基于之前的单管NEG镀膜工作,发展了多腔镀膜技术并开展了系列技术研究,利用扫描电子显微镜,原子力显微镜,能量色散X射线能谱对NEG薄膜进行表征,利用X射线光电子能谱对NEG薄膜的激活特性进行分析.结果表明多腔系统中各真空管之间,以及与之前的单管镀膜真空管内壁薄膜的表面形貌,断面形貌,表面粗糙度和组成成分大体相同,在180℃保温2 h后,NEG薄膜表面的金属高价态被还原成了低价态并出现了 Ti、Zr、V的金属态,这与之前单个镀膜真空腔的结果一致.三根此种方法镀膜真空腔串联安装,并配有SIP组成真空系统来模拟HALF储存环真空的实际工作状态.经180℃激活24 h后,腔体远端真空度为4.13×10-8 Pa,且真空度随时间变化缓慢变好,放置260 h后真空度可以达到3.74×10-8 Pa,这将为HALF真空系统工作提供有利的技术支持.
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