基于微元材料去除模型的单摆抛光平面度预测
Diamond & Abrasives Engineering（2022）
摘要
为探究单摆参数对抛光工件平面度的影响,提出一种基于速度和压强分布耦合的抛光微元材料去除模型,以预测工件表面平面度.从单颗磨粒的材料去除出发,建立工件表面各微元单位时间内材料去除厚度模型,并将工件相对抛光垫速度和工件表面压强分布耦合代入模型;根据工件初始面形提取微元高度值,结合各微元材料去除的厚度,计算抛光后的工件表面平面度;试验验证平面度预测方法.结果表明:仿真与实际抛光后的面形的变化趋势相同,平面度PV20值绝对偏差小于12.0％,平面度预测可靠.
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