室温下大厚度氟化钇薄膜的制备

Liu Changyang,Jin Yunxia,Cao Hongchao,Kong Fanyu,Wang Yonglu,Shao Jianda

CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG（2021）

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摘要

氟化钇薄膜由于具有优良的光学性能常被用于红外波段,通过优化磁控溅射工艺,成功地在锗基底上实现了厚度大于1μm的氟化钇薄膜的制备,并分析了溅射功率对于氟化钇薄膜光学性能的影响.采用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、傅里叶红外光谱仪和原子力显微镜对样品的物相结构、化学成分、光学常数和表面粗糙度进行了表征和系统分析.研究表明在200 W的溅射功率下能够制备出氧原子数分数低于6％,在2～8 μm波长范围内折射率高于1.6的低吸收氟化钇薄膜.

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关键词

thin films, yttrium fluoride films, magnetron sputtering, sputtering power, refractive index

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