Mathematical modeling of the electrodeposition process of bismuth-selenium system

Данная работа посвящена изучению математической модели для оптимизации процесса получения тонких пленок Bi-Se электрохимическим методом. Исследование проводилось потенциодинамическим, потенциостатическим и гальваностатическим методами, в различных условиях на Pt и Ni электродах. Математические расчеты были выполнены в программном пакете с использованием специально разработанного для этого процесса программного обеспечения. С изучением влияний различных факторов (концентрации исходных компонентов, температуры, плотности тока и т.д.) были выбраны оптимальный режим электролиза и состав электролита для процесса совместного осаждения. По этим результатам для будущих целей были назначены критерии Снедоккора и Фишера и оценены коэффициенты регрессии. Полученное уравнение регрессии определяет содержание электролита и условия электролиза, которое позволяет осаждать сплав Bi-Se, содержащий в составе необходимое количество Bi.