Cross-Magnetron-Effekt und ITO-Schichtabscheidung

Eine Grosflachenbeschichtung mit leitfahigen transparenten Schichten erfordert eine homogene Verteilung der Prozessparameter am Substrat. Nachteilig wirken sich hierbei der Cross-Corner-Effekt bei der Einzel-Magnetronquelle sowie der Cross-Magnetron-Effekt beim Dualmagnetron aus. Messungen belegen einen erheblichen Einfluss dieser Effekte auf die laterale Verteilung der Plasmaeigenschaften am Substrat. Es werden die gemessenen funktionellen Eigenschaften von Indium-Zinn-Oxydschichten im Zusammenhang mit der Konzentration des dissoziierten Sauerstoffs im Prozessgas diskutiert, die von den Plasmaeigenschaften und dem Sauerstoffpartialdruck bestimmt wird. Cross Magnetron Effect and ITO Film Deposition The large area deposition of TCO films requires a strictly homogeneous lateral distribution of the process parameters at the substrate position. In view of that, Cross Corner Effect (in case of a single magnetron source) and Cross Magnetron Effect (for dual magnetrons) can cause problems. Measurements confirm a distinct influence of these effects on the functional properties of indium tin oxide films. The effect will be discussed in terms of the concentration of the dissociated oxygen in the process gas, which depends on the plasma properties and the oxygen partial pressure.