用于非金属核素面源制备的阳极氧化工艺的建立

为研究铝氧化膜成膜工艺参数,验证氧化膜吸附放射性核素14 C性能,通过建立一套20％ 硫酸体系阳极氧化装置,研究在电解液温度14～20℃、电压10～22 V、成膜时间20～150 min范围内各参数与氧化膜厚度的关系.结果表明,该方法研制生产的氧化膜厚度在4～60μm之间.通过实验验证,采用研制的4～12μm的氧化膜,厚度均匀性优于7％,对14 C的吸附率大于75％.本研究结果可为非金属核素标准面源的研制提供一种新的方法.