氨水-六甲基二硅胺烷对SiO2化学膜环境稳定性的影响

针对溶胶-凝胶技术制备的单层SiO2化学膜,在室温下研究氨水-六甲基二硅胺烷(HMDS)气氛的量对膜层改性的影响,并在低真空条件下测试了其抗邻苯二甲酸二丁酯(DBP)污染性能.采用紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)、红外光谱仪和原子力显微镜分析了改性前后化学膜特性的演变.研究结果表明:经过DBP污染后,15～30 mL氨水-HMDS改性后化学膜的峰值透过率为99.8％,较改性前化学膜的峰值透过率提升了3.5％,此时化学膜表现出优异的抗污染特性.但是,随着氨水-HMDS处理量的进一步增多,化学膜的激光损伤阈值由改性前的的24.32 J/cm2降到19.36 J/cm2.本研究有助于优化改性参数,以提高化学膜的抗污染性能,在实际工程应用中具有重要的价值.