RGO改性介孔TiO2薄膜光催化同步去除Ni2+和SDBS

以钛酸四丁酯(TBT)、天然鳞片石墨为原料,聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为介孔模板剂,通过浸渍-提拉法辅助热处理和紫外辐照还原制备介孔RGO-TiO2薄膜,利用XRD、SEM、BET、UV-Vis DRS、FT-IR等对其结构、形貌及性能进行表征.以Ni2+和十二烷基苯磺酸钠(SDBS)为目标污染物,考察了介孔RGO-TiO2薄膜光催化去除Ni2+和SDBS的反应性能,探讨了GO加入量及pH值对其催化性能的影响.在最佳条件下,进一步研究Ni2+/SDBS共存体系中Ni2+的光催化还原和SDBS的光催化氧化.结果表明:GO的加入量为1.0wt％时,介孔RGO-TiO2薄膜对单一体系Ni2+和SDBS的光催化效率最高,在此条件下,pH=7.5时Ni2+还原效率最高,pH=6时SDBS降解效率最高.综合以上实验条件,设定GO加入量为1.0wt％,pH≈6时,Ni2+/SDBS共存体系中Ni2+和SDBS去除效率均优于Ni2+和SDBS单一体系,此时,Ni2+还原率为87.9％,SDBS氧化率为95.5％.分析协同光催化机制,TiO2-SDBS表面复合物在紫外光激发下,SDBS被氧化同时,光生电子及SDBS氧化产物CO2·-自由基同步还原Ni2+.