等离子体与石墨及其涂层相互作用的研究

NUCLEAR FUSION AND PLASMA PHYSICS（2000）

引用 0|浏览0

暂无评分

摘要

应用LAS-2000辐照设备、射频离子源设备及HL-1M装置对等离子体与石墨及其涂层的相互作用进行了系统研究,为进一步优化HL-1M装置原位处理工艺、杂质控制以及HL-2A装置第一壁的选材和第一壁处理、杂质控制等提供依据.

AI 理解论文

溯源树

样例

生成溯源树，研究论文发展脉络

Chat Paper

正在生成论文摘要