不同表面处理对全瓷材料表面粗糙度及表面自由能的影响

目的:比较分析三种不同表面处理方法对全瓷材料表面粗糙度及表面自由能的影响.方法:选用两种氧化锆(LAVA Plus,Wieland)和两种玻璃陶瓷(E.max Press,ELDC),按照生产商的制作方法制作成盘状试件(直径13mm,厚1mm),并将以上四组全瓷材料按照不同的表面处理方式分别分为以下三个亚组:粗磨组(rough grinding)、抛光组(polishing)和上釉组(glazing).利用三维形貌扫描仪测量样本表面的面粗糙度(Sa),表面张力仪测量各组样本表面接触角并计算表面自由能.结果:各组材料粗磨组粗糙度值均显著高于其抛光组及上釉组;对于两种氧化锆陶瓷,抛光组与上釉组间粗糙度值无显著差异(P＞0.05),而对于两种玻璃陶瓷,抛光组的粗糙度值显著低于上釉组(P＜0.05);上釉组表面自由能均显著高于相应粗磨组及抛光组(P＜0.05),粗磨组和抛光组间无显著性差异.结论:抛光和上釉均能显著降低全瓷材料的表面粗糙度,对于氧化锆陶瓷,抛光能达到类似上釉的表面粗糙度,对于玻璃陶瓷,抛光能够获得更加光滑的表面.上釉后全瓷材料的表面自由能显著高于抛光组.