铁钴合金磁屏蔽薄膜的性能表征与工艺控制韩利元,金鑫,陈志强,李永卿,王群,郭海霞,肖石,张敏Safety & EMC(2019)引用 0|浏览3暂无评分摘要利用电化学沉积法制备了铁钴合金薄膜试样,研究了离子浓度比、pH值、温度、电流密度等工艺条件对薄膜成分含量的影响,并对薄膜的物相组成、表面形貌、磁性能进行了表征.说明了特定工艺参数下铁钴合金薄膜的结构、性能特点,结果可供制作适用于不同场合的铁钴合金薄膜时参考.更多AI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要