PEALD沉积温度对AlN的结构和表面特性的影响
Infrared and Laser Engineering（2016）
摘要
研究通过等离子增强原子层沉积(PEALD)在不同沉积温度下生长的AlN温度对其特性的影响.前驱体是NH3和TMA,在300℃、350℃和370℃沉积温度下分别沉积了200、500、800、1000、1500周期的AlN层,并讨论了AlN薄膜的生长速率、结晶化和表面粗糙度.结果表明,在300～370℃范围内,随着温度的上升薄膜的沉积速率和结晶化增加,而薄膜表面粗糙度减小.
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关键词
deposition temperature,aln,surface properties
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