基于连续弯液面构筑的有序阵列模板复制模塑制备图案化聚合物薄膜

基于咖啡环理论，利用微米尺度限制下的弯液面溶剂散逸过程获得表面微结构可控的有序阵列，以此为母模板制备聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性印章，通过复制模塑过程实现阵列结构转移。利用广义 Young-Laplace 方程建立的理论模型分析弯液面聚合物沉积黏连过程，推导出条纹沉积频率与聚合物分子量、基底滑动速率和溶液浓度的关系，理论计算结果与实验现象一致。