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Characterization of Si interface in FIS structure by photoreflectance spectroscopy

Hirofumi Kanda,Masayuki Sohgawa, Yoshihide Toyoshima,Takeshi Kanashima,Masanori Okuyama,Akira Fujimoto

JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY（2003）

引用 23|浏览4
关键词
photoreflectance spectroscopy,MFIS,interface stress
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