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Developer Soluble Organic BARCs for KrF Lithography

C Cox, D Dippel, C Ghelli,P Valerio, B Simmons,A Guerrero

Advances in Resist Technology and Processing XX SPIE Proceedings（2003）

引用 8|浏览3

关键词

bottom anti-reflective coating (BARC),wet developable,undercut,via

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