TEOSを原料とするCVD法によるSiO_2/SiC MOS構造の作製(薄膜プロセス・材料,一般)充則 逸見,裕哉 井口,崇史 酒井,晴彦 杉田,朋彦 山上,林平 林部,喜一 上村combinatorial pattern matching(2011)引用 23|浏览2暂无评分AI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要