FTIR和XRD研究甲酰胺在高岭石插层复合体系中的形态及其复合物的微观结构

插层复合体系中，有机插层剂在插层的同时也可能吸附在复合物的表面或以自由态存在，对插层分子的表征将会产生较大的影响。以丙酮作淋洗剂，用FT IR及XRD技术对淋洗前后的插层复合体系监控，插层剂分子在复合体系中的可能存在形式，探讨水的作用及复合物微观结构的变化。结果显示：甲酰胺有插层、游离和吸附在复合物表面三种存在形态。3355和3462 cm -1处的红外振动峰归属于表面吸附的插层剂分子，3626 cm-1的峰归属于插层的 H2 O分子，在干燥后均消失。H2 O作为填充空间的分子参预了插层过程，且插入到层间，并在干燥后脱嵌。3534 cm -1处的振动峰在淋洗前后一直存在，是由于插层的甲酰胺分子与高岭石层间形成氢键作用的结果。以丙酮作为淋洗剂，可以选择性的消除表面吸附的甲酰胺而不影响复合物的结构。插层的甲酰胺分子以C-N键垂直于层片呈单分子层排列，并通过氨基与高岭石铝氧八面体层的内表面羟基和硅氧四面体层的氧形成了两种氢键作用。