新型介质夹持杆薄膜衰减器Nb2O5的制备

VACUUM ELECTRONICS（2006）

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摘要

采用高效磁控溅射连续镀膜技术,在介质夹持杆上溅射Nb膜,然后在真空室里放入O2对膜层进行氧化,得到Nb2O5膜层,用测量电阻来控制膜层厚度,即可制备各种膜系.所得到的膜层具有密度高、吸收大、热稳定性好等优点.

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