常温低氮氩比下(002)择优取向氮化铝薄膜的制备

Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)（2011）

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摘要

常温下采用反应射频磁控溅射方法在玻璃基底上制备出(002)单一择优取向柱状结构的氮化铝薄膜,通过XRD分析发现溅射功率为80W、溅射气压为0.20 Pa、氮气与氩气比为5%时,氮化铝(002)晶体衍射峰最强,通过FESEM表面及截面分析表明在此条件下得到的氮化铝薄膜表面较平整、致密性较好.

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关键词

deposition rate,AlN films,RF reactive magnetron sputtering,preferred orientation

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