PZT厚膜与Si衬底互扩散阻挡层研究

Chong CHEN,Chuangui WU,Qiangxiang PENG,Wenbo LUO,Wanli ZHANG,Shu' WANG

Piezoelectrics & Acoustooptics（2013）

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摘要

在Pt/Ti/SiO2/Si基片上,利用电泳沉积制备PZT热释电厚膜材料.为防止Pb和Si互扩散,在Pt底电极与SiO2/Si衬底间通过直流磁控溅射制备了TiOx薄膜阻挡层.对具有0、300 nm和500 nm TiOx阻挡层的PZT厚膜材料用SEM和能量色散谱仪(EDS)表征了Pb和Si互扩散情况,用动态热释电系数测量仪测试了热释电系数.结果表明,当TiOx阻挡层为500 nm时,可阻挡Pb和Si互扩散,热释电性能最好.热释电系数p=1.5×10-8 C·cm-2·K-1,相对介电常数εr=170,损耗角正切tanδ=0.02,探测度优值因子Fd=1.05×10-5pa-0.5.

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关键词

TiOx,PZT thick film,DC magnetron sputtering,Pyroelectric properties

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