溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

Ji-hua GUO,Zhi-xin HUANG,Zeng-li CUI,Lei YANG,Jin-bo SHAO,Hong-sheng ZHU,Ping ZHANG

Gongneng Cailiao/Journal of Functional Materials（2009）

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摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.

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关键词

GdTbFeCo,Magneto-optical property,RF magnetron sputtering,Sputtering technology

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