镀膜技术对金属薄膜性能与制备氢化物薄膜的影响

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology(2013)

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摘要
分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。脉冲激光沉积镀膜易按层与层叠加方式成膜,薄膜应力小,缺陷少,晶格尺寸大,而热蒸发和溅射镀膜多按三维岛式生长成膜,薄膜应力较大,因应力诱发较多缺陷与位错,晶格尺寸相对要小。脉冲激光沉积粒子能量高,能够实现氢化物一步成膜,薄膜性能更佳。脉冲激光沉积技术更有利于制备聚变应用的金属氢化物薄膜。
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关键词
Evaporated deposition,Hydride thin film,Metal thin film,Pulsed laser deposition,Sputtered deposition
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