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Polishing and Cleaning of Low K Dielectric Material for ild and Damascene
Yuchun Wang,Rajeev Bajaj, Yongsik Moon, David Mai, Kapila Wijekoon, Yufei Chen, Fritz Redeker, Dian Sugiarto, Li-Qun Xia
MRS Online Proceedings Libraryno. 1 (2011): 1-7
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CHEMICAL PLANARIZATION OF COPPER WAFER POLISHING
Wenchiang Tu,Feng Q Liu,Yuchun Wang, Lakshmanan Karuppiah, William H Mcclintock, Barry L Chin
mag（2011）
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Extended pad life for ECMP and barrier removal
Yuchun Wang, Robert A Ewald,Weiyung Hsu,Liangyuh Chen
mag（2011）
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Additives for pressure sensitive polishing compositions
Juilung Li,Yuchun Wang,Rajeev Bajaj, Fred C Redeker
mag（2004）
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Conductive polishing article for electrochemical mechanical polishing
Liangyuh Chen,Yuchun Wang,Alain Duboust, Daniel A Carl, Ralph M Wadensweiler, Manoocher Birang, Paul D Butterfield,Rashid Mavliev,Stan D Tsai
mag（2004）
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