AI 检索
AI 阅读
analysis
趋势分析
编组
开放平台
more
更多
排名必读论文期刊顶会热点AI 简史溯源树小脉星探人才迁徙塔尖人才国防情报追踪开源工具智慧手语
VIPCreated with Sketch.
研究兴趣

论文共 96 篇作者统计合作学者相似作者

按年份排序按引用量排序主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选
时间
引用量
主题
期刊级别
合作者
合作机构
OPC and modeling solution towards 0.55NA EUV stitching
Dongbo Xu,Werner Gillijns, Stewart Wu, Abdulrazaq Adams,Vincent J. Wiaux,Vicky Philipsen, Xima Zhang, Edita Tejnil,Germain Fenger
Optical and EUV Nanolithography XXXVII (2024)
引用0浏览0引用
0
0
Source mask optimization (SMO) study for high-NA EUV lithography to achieve single patterning on random logic metal
Soobin Hwang,Werner Gillijns, Stefan De Gendt,Ryoung-Han Kim
DTCO and Computational Patterning III (2024)
引用0浏览0引用
0
0
Improving OPC model accuracy of dry resist for low k1 EUV patterning
Dongbo Xu,Werner Gillijns, Stewart Wu, Shruti Jambaldinni, Benjamin Kam, Anuja De Sliva,Germain L. Fenger
DTCO and Computational Patterning III (2024)
引用0浏览0引用
0
0
EUV SRAFs printing modeling with bright field mask
Chih-I Wei,Azat Latypov,Shuling Wang, Satya Sriram, Prakash Deep,Yunfei Deng,Ethan Maguire, Shumay Shang,Germain Fenger,Werner Gillijns
Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2022)
引用0浏览0引用
0
0
Improving Silicon-photonics inverse-design printability by leveraging SEM contours for advanced Optical Proximity Correction techniques
Youssef Drissi,Werner Gillijns,Sebastien Lardenois,Peter Verheyen,Guy Lepage, Mahmoud Mohsen, Maxence Delorme
ADVANCED FABRICATION TECHNOLOGIES FOR MICRO/NANO OPTICS AND PHOTONICS XV (2022)
引用0浏览0引用
0
0
Design and Mask Optimization Toward Low Dose EUV Exposure
Dongbo Xu,Werner Gillijns,Ryoung-han Kim
DTCO AND COMPUTATIONAL PATTERNING (2022)
引用0浏览0引用
0
0
加载更多
作者统计
  • 合作者
  • 学生
  • 导师
暂无相似学者，你可以通过学者研究领域进行搜索筛选
数据免责声明
页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果，我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问，可以通过电子邮件方式联系我们：report@aminer.cn