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Main Research Areas: Plasma chemistry - solid state chemistry, kinetics and mechanisms (mass spectroscopy, laser induced fluorescence and spectroscopy); plasma CVD and PVD, OM CVD (Ge, Si, heteroepitaxy of 3C-SiC), chemical transport and epitaxy; plasma etching; plasma-surface interaction in fusion devices. Surface analytics XPS, AES, ISS, STM) surface chemistry in plasmas; Restoration and conservation of archeological artifacts; nc light emitting Si and Ge; Optical properties of organosilicon molecules; Superhard nanocomposites.
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MATERIALS RELIABILITY IN MICROELECTRONICS IIIno. 1 (2020): 461-466
Microstructure-Property Correlations for Hard, Superhard, and Ultrahard Materialspp.105-134, (2016)
Microstructure-Property Correlations for Hard, Superhard, and Ultrahard Materialspp.167-210, (2016)
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