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Demonstration of Conformal MoS2 on High-Aspect-Ratio Structures Up to 40:1 and Exploration of Manufacturability in a 300mm Fab for 3D NAND Applications
Hao-Ling Tang, Keith T Wong, Minrui Yu, Jason Appell, Pei Liu, Chunyu Wong, Yi-Hsuan Sharon Hsiao, Hongwen Zhou, Luc Thomas, Lixia Rong,Lavinia Nistor, Ming-Hui Chiu, Xin Meng, Jee-Jay Chen, Dongqing Yang, Gopal Bajaj, Arvind Kumar, Michel Frei,Srinivas D Nemani,Mahendra Pakala,Ellie Yieh
2025 IEEE International Memory Workshop (IMW)pp.1-4, (2025)
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