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K. -Y Hsiang,F. -S Chang, Z. -F Lou, A. Aich, A. Senapati,J. -Y Lee, Z. -X Li, J. -H Chen,C. -H Liu,C. W. Liu, S. Maikap, P. Su,
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICESno. 4 (2024): 2708-2713
Y. -T. Tsai,C. -R. Liu,Y. -T. Chen,S. -M. Wang,Z. -K. Chen, C. -S. Pai, Z. -R. Haung,F. -S. Chang, Z. -X. Li, K. -Y. Hsiang,M. -H. Lee,Y. -T. Tang
arXiv (Cornell University) (2023)
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Tsung-En Lee,Hung-Li Chiang, Chih-Yu Chang,Yuan-Chun Su,Shu-Jui Chang, Jui-Jen Wu, Bo-Jiun Lin,Jer-Fu Wang, Shu-Chih Haw,Shang-Jui Chiu, He-Liang Ching,Yan-Gu Lin,
2023 International Electron Devices Meeting (IEDM)pp.1-4, (2023)
arXiv (Cornell University) (2023)
引用0浏览0引用
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J.-Y. Lee,F.-S. Chang, K.-Y. Hsiang, P.-H. Chen, Z.-F. Luo,Z.-X. Li, J.-H. Tsai,C. W. Liu,Min-Hung Lee
VLSI Technology and Circuitspp.1-2, (2023)
K.-Y. Hsiang,J.-Y. Lee,F.-S. Chang, Z.-F. Lou, Z.-X. Li,Z.-H. Li, J.-H. Chen,C. W. Liu, T.-H. Hou,M. H. Lee
VLSI Technology and Circuitspp.1-2, (2023)
OPERATIVE DENTISTRYno. 3 (2023): 348-348
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ECS Transactionsno. 2 (2023): 9-20
K.-Y. Hsiang, J.-Y. Lee, Z.-F. Lou,F.-S. Chang,Y.-C. Chen,Z.-X. Li,M. H. Liao,C. W. Liu, T.-H. Hou, P. Su,M. H. Lee
IEEE Transactions on Electron Devicesno. 4 (2023): 2142-2146
2023 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS)pp.1-4, (2023)
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