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Performance of a high-NA dual-stage 193-nm TWINSCAN Step and Scan system for 80-nm applications
Jos De Klerk, Louis Jorritsma,Eelco Van Setten,Richard Droste, Richard Du Croo De Jongh,Steven G Hansen, Daniel Gene Smith,Mark A Van De Kerkhof, Frank Van De Mast,Paul Graeupner, Thomas Rohe, Klaus Kornitzer
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE) (2003): 822-840
引用2浏览0引用
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Extending Krf To 100nm Imaging With High-Na And Chromeless Phase Lithography Technology
R Socha, D Van Den Broeke,L Yu, W Conley,W Wu, F Chen,J Petersen, D Gerold,J Van Praagh,R Droste, D Flagello,S Hsu
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE) (2002): 446-458
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