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Small Imaging Overlay Metrology Targets for Advance Nodes
Yoel Feler, Diana Shaphirov,Mark Ghinovker, Katya Gordon, Ido Ashuah, Yunhua Wu, Penny Lin
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL XXXVII (2023)
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Overlay stability control in IBO measurement using rAIM (TM) target
Nahee Park,Dohwa Lee, Liu Liu,Xuefei Zhou,Hongpeng Su, DongSub Choi, Wayne Zhou, Hedvi Spielberg, Efi Megged,Chen Dror, Diana Shaphirov, Zephyr Liu,
Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI (2022)
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Advanced overlay target optimization and Integration in optical metrology
Eitan Hajaj, Diana Shaphirov, Eltsafon Ashwal,Chen Dror, Raviv Yohanan,Mark Ghinovker, Katya Gordon, Zephyr Liu,Xiaolei Liu, Isaac Salib
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021): 1161138
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Memory OPO improvement using novel target design
Eitan Hajaj, Honggoo Lee,Chanha Park,Sang-Ho Lee,Dongyoung Lee,Dohwa Lee,Dongsoo Kim,Sanghuck Jeon, Dongsub Choi, Eltsafon Ashwal,Chen Dror, Raviv Yohanan,
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021): 1161137
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Moiré effect-based overlay target design for OPO improvements
Dieter Van den Heuvel,Philippe Leray, Eitan Hajaj, Diana Shaphirov, Eltsafon Ashwal,Chen Dror, Raviv Yohanan,Mark Ghinovker, Katya Gordon, Zephyr Liu,Xiaolei Liu,Roel Gronheid,
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021): 505-511
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