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Assessment of stochastic fail rate using E-beam massive metrology
Wallace He, Camille Xu, Daniels Bae,Kunyuan Chen,Andy Lan, Richer Yang, Abdalmohsen Elmalk,Aiqin Jiang,Fuming Wang, Double Chung,Shane Su, Kuo-Feng Pao,
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021): 563-569
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Proteus Smo For Process Window Improvement
Kun-Yuan Chen,Andy Lan, Richer Yang, Jing Jing Liu, Ting Ting Xu, Cheng-Shuan Lin, Hua Ding, Chih-Jie Lee, Thuc Dam, Jianjun Jia
OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XXXIII (2021)
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New improving metrology for advanced memory devices with high transmission attenuated phase shift mask
Chia-Hung Chen, Sheng-Tsung Tsao,CongCong Fan,Jie Du, Richer Yang, Asei Chou,Kunyuan Chen, Jimmy Chang,Junjun Zhang,Wallace He,Leslie Zhang,YunSheng Xia
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIV (2020): 507-516
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New Improving Metrology For Advanced Memory Devices With High Transmission Phase Shift Mask
Chia-Hung Chen, Sheng-Tsung Tsao,Congcong Fan,Jie Du, Richer Yang, Asei Chou,Kunyuan Chen, Jimmy Chang,Junjun Zhang,Wallace He,Leslie Zhang,Yunsheng Xia
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY XXXIV (2020)
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