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Our group is interested in the study and growth of thin film materials. We are developing the electrochemical form of atomic layer epitaxy (ALE) or atomic layer deposition (ALD). ALE is a method where atomic layers of the elements making up a compound are deposited in a cycle, using surface limited reactions. In that way, growth is always layer by layer, promoting the epitaxial growth high quality thin films. Electrochemical surface limited reactions are generally referred to as underpotential deposition, or UPD.
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合作者
合作机构
Pauline Howell,John Lewellen Stickney
ECS Meeting Abstractsno. 24 (2019): 1221-1221
Meeting abstracts (2017)
Meeting abstracts (2017)
ECS Meeting Abstractsno. 29 (2017): 1370-1370
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