jiannan xiangKey Laboratory of Microelectronics Devices & Integrated TechnologyInstitute Chinese Academy of Sciences关注立即认领分享关注立即认领分享基本信息浏览量:0职业迁徙个人简介暂无内容研究兴趣论文共 2 篇作者统计合作学者相似作者按年份排序按引用量排序主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选时间引用量主题期刊级别合作者合作机构Attainment of dual-band edge work function by using a single metal gate and single high-k dielectric via ion implantation for HP CMOS deviceQiuxia Xu,Guowang Xu, Huaming Zhou,Haizhen Zhu,Jia Liu,Yuemin Wang, Jianbin Li,Jiannan Xiang,Q Liang, Hongbin Wu,Jiahang Zhong,Miao Xu,Solid-State Electronics(2016)引用3浏览0引用30Electrical and TDDB Characteristics of High-k/Metal Gate MOS Capacitors with Different RTO Temperatures Huanbin Xu, Shouju Ren, Weizhen Luo,H Yang,Yu Wang, K Han,Jiannan Xiang,Xiang Wang, X Ma,Weiben Wang, Chunmei Zhao, Danqi Chen,ECS Transactionsno. 1 (2013): 935-940引用0浏览0引用00作者统计合作学者合作机构D-Core合作者学生导师暂无相似学者,你可以通过学者研究领域进行搜索筛选数据免责声明页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果,我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问,可以通过电子邮件方式联系我们:report@aminer.cn