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METHODS AND APPARATUS FOR POLISHING AN EDGE OF A SUBSTRATE
Ho Seon Shin, Gary C Ettinger, Donald J K Olgado,Erik C Wasinger,Senhou Ko, Charles I Dodds,Yufei Chen, Weiyung Hsu
mag（2009）
引用36浏览0引用
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0
MULTIPLE SUBSTRATE VAPOR DRYING SYSTEMS AND METHODS
Donald J K Olgado, Simon Yavelberg, Edwin Velaquez,Hui Chen, Sheshraj L Tulshibagwale,Ho Seon Shin
mag（2008）
引用26浏览0引用
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0
HORIZONTAL MEGASONIC MODULE FOR CLEANING SUBSTRATES
Donald J K Olgado, Sheshraj L Tulshibagwale, Thomas B Brezoczky, John S Lewis,Ho Seon Shin,Hui Chen, Roy C Nangoy
mag（2008）
引用24浏览0引用
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0
METHODS AND APPARATUS FOR SUPPORTING A SUBSTRATE IN A HORIZONTAL ORIENTATION DURING CLEANING
Donald J K Olgado, Roy C Nangoy, Shesraj L Tulshibagwale,Hui Chen,Ho Seon Shin
mag（2008）
引用25浏览0引用
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0
SYSTEMS AND METHODS FOR MODULAR AND CONFIGURABLE SUBSTRATE CLEANING
Donald J K Olgado,Ho Seon Shin, Sheshraj L Tulshibagwale, Roy C Nangoy,Hui Chen, Allen L Dambra
mag（2008）
引用23浏览0引用
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0
Methods and apparatus for improving edge cleaning of a substrate
Hui Chen, Annedouce M P Coulin,Ho Seon Shin, Donald J K Olgado
mag（2007）
引用23浏览0引用
23
0
Methods and apparatus for processing a substrate
Gary C Ettinger,Erik C Wasinger,Senhou Ko, Wuiyung Hsu,Liangyuh Chen,Ho Seon Shin, Donald J K Olgado
mag（2007）
引用23浏览0引用
23
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Methods and apparatus for providing fluid to a semiconductor device processing apparatus
Sandy Shihhsun Chao, Songjae Lee,Ho Seon Shin
mag（2006）
引用25浏览0引用
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