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EUV SRAFs printing modeling with bright field mask
Chih-I Wei,Azat Latypov,Shuling Wang, Satya Sriram, Prakash Deep,Yunfei Deng,Ethan Maguire, Shumay Shang,Germain Fenger,Werner Gillijns
Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2022)
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Single mask solution to pattern BLP and SNLP using 0.33NA EUV for next-generation DRAM manufacturing
Kaushik Sah,Andrew Cross,Sayantan Das, Roberto Fallica,Jeonghoon Lee, Ryan Ryoung Kim,Sandip Halder,Ethan Maguire, Ana-Maria Armeanu, Monica Sears,Neal Lafferty, Vlad Liubich,
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022 (2022)
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Contour based process characterization and modeling for HVM
Kan Zhou,Qijian Wan,Ao Chen,Wenzhan Zhou,Chunshan Du, Recoo Zhang,Yu Zhang,Wenming Wu,Germain Fenger, Seshadri Rampoori
2022 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS)pp.1-6, (2022)
引用0浏览0EIWOS引用
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Pareto front optimization for enhanced model prediction accuracy
David Fryer,Ignat Moskalenko,Tung-Yu Wu, Meng-Shiun Chiang,Chun Yen Liao, Tsung-Wei Lin,Chun-Sheng Wu,Chao-Yi Huang, Luke Lo, Xiang Fang,Germain Fenger, Farruh Shahidi
DTCO AND COMPUTATIONAL PATTERNING (2022)
引用0浏览0引用
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SEM contour extraction application on contact edge roughness
Xiao Yang,Zhenfei Zheng,Germain Fenger, Guiqi Li, Zhuohong Zhou, Hui Zeng
2022 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS)pp.1-3, (2022)
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