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EUV OPC modeling of dry photoresist system for pitch 32nm BEOL
Jyun-Ming Chen,David Rio, Maxence Delorme,Cyrus E. Tabery,Christoph Hennerkes,Chris Spence,Benjamin Kam, Mohand Brouri,Nader Shamma
Optical and EUV Nanolithography XXXVII (2024)
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Curvilinear EUV mask: development of innovative mask metrology
Maxence Delorme,Werner Gillijns,Christoph Hennerkes,Emily Gallagher, Adam Lyons, Mahmoud Mohsen, Tom Wallow
Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2022)
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Statistical Analysis Of The Impact Of 2d Reticle Variability On Wafer Variability In Advanced Euv Nodes Using Large-Scale Monte Carlo Simulations
Adam Lyons,Luke Long, Thomas Wallow,Chris Spence, Ton Kiers, Paul Van Adrichem, Vidya Vaenkatesan, Jiyou Fu,Christoph Hennerkes,Cyrus Tabery
EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY XII (2021)
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Mask Contribution To Opc Model Accuracy
Adam Lyons, Tom Wallow,Christoph Hennerkes,Chris Spence, Maxence Delorme, David Rio, Dai Tsunoda, Yohei Torigoe, Masakazu Hamaji
EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2020 (2020)
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EUV LIGHT SOURCE FOR GENERATING A USABLE OUTPUT BEAM FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Ingo Saenger, Manfred Maul,Christoph Hennerkes,Johannes Ruoff, Daniel Kraehmer
mag（2015）
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ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY
Christoph Hennerkes, Ingo Saenger, Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Martin Meier, Frank Schlesener
mag（2014）
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