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arxiv(2024)
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Christina Porter, Teis Coenen, Niels Geypen, Sandy Scholz, Loes van Rijswijk, Han-Kwang Nienhuys, Jeroen Ploegmakers, Johan Reinink, Hugo Cramer, Rik van Laarhoven, David O'Dwyer, Peter Smorenburg,
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL XXXVII (2023)
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Mengqi Du,Xiaomeng Liu,Antonios Pelekanidis, Fengling Zhang,Lars Loetgering,Patrick E. Konold,Christina L. Porter, Peter Smorenburg,Kjeld S.E. Eikema,Stefan Witte
Imaging and Applied Optics Congress 2022 (3D, AOA, COSI, ISA, pcAOP) (2022)
Science Advancesno. 5 (2021)
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OSA High-brightness Sources and Light-driven Interactions Congress 2020 (EUVXRAY, HILAS, MICS) (2020), paper EW3A.4 (2020)
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII (2019)
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