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Performance of stacked nanosheet gate all around FET’s with EUV patterned gate and sheets
Indira Seshadri,Jennifer Church, Prateek Hundekar,Mary Breton,Jingyun Zhang,Eric R. Miller,Andrew M. Greene,Frougier Julien, Chris Waskiewicz,Tao Li, Tsung-Sheng Kang, Daniel J. Dechene,
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII (2021)
引用1浏览0引用
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A 7nm Cmos Technology Platform For Mobile And High Performance Compute Application
S. Narasimha, B. Jagannathan, A. Ogino,D. Jaeger,Brian J. Greene,C. Sheraw, K. Zhao, B. S. Haran,Unoh Kwon, A. K. M. Mahalingam,B. Kannan, B. Morganfeld,
2017 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM)（2017）
引用55浏览0EIWOS引用
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A Universal Hardware-Driven PVT and Layout-Aware Predictive Failure Analytics for SRAM
Rajiv V. Joshi,Sudesh Saroop,Rouwaida Kanj,Yang Liu,Weike Wang,Carl Radens,Yue Tan,Karthik Yogendra
IEEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systemsno. 3 (2016): 968-978
引用5浏览0EIWOS引用
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SELECTIVE PASSIVATION OF VIAS
Tienjen Cheng,Lawrence A Clevenger, Terence L Kane,Carl J Radens, Andrew H Simon, Yunyu Wang,Yiheng Xu,John Zhang
mag（2015）
引用23浏览0引用
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INTERCONNECT STRUCTURE HAVING LARGE SELF-ALIGNED VIAS
John H Zhang,Lawrence A Clevenger,Carl J Radens,Yiheng Xu, Richard Stephen Wise,Akil K Sutton, T Spooner, Nicole A Saulnier
mag（2015）
引用23浏览0引用
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